Opto-Edu (Beijing) Co., Ltd. 0086-13911110627 sale@optoedu.com

OPTO-EDU A63.7010 EBL Electron Beam Lithography Machine

Mesin Litografi Berkas Elektron OPTO-EDU A63.7010 EBL

Menyoroti

Mesin litografi sinar elektron EBL
,
Mikroskop pemindaian litografi sinar elektron
,
Mesin litografi OPTO-EDU A63.7010
Peralatan standar

Tahap Interferometer Laser
Perjalanan Panggung

≤105mm
Resolusi Gambar

≤1nm@15kV; ≤1,5nm@1kV
Kepadatan Arus Balok

>5300 A/cm2
Ukuran Titik Sinar Minimum

≤2nm
Rana Berkas Elektron

Waktu Naik <100 ns
Tempat asal

Cina
Nama merek

CNOEC, OPTO-EDU
Sertifikasi

CE,
Nomor model

A63.7010
Dokumen

Brosur Produk PDF
Kuantitas min Order

1 buah
Harga

FOB $1~1000, Depend on Order Quantity
Kemasan rincian

Kemasan Karton, Untuk Transportasi Ekspor
Waktu pengiriman

180 Hari
Syarat-syarat pembayaran

T/T, West Union, Paypal
Menyediakan kemampuan

5000 buah/Bulan

Mesin Litografi Berkas Elektron OPTO-EDU A63.7010 EBL

button button

Dapatkan Harga Hubungi sekarang

Spesifikasi Tahap
Peralatan Standar	Tahap Laser Interferometer
Perjalanan panggung	≤105 mm
Spesifikasi Senapan Elektron dan Pencitraan
Schottky Field Emission Gun	Tegangan Percepatan 2OV ~ 30kVDetektor Elektron Sekunder Sisi dan Detektor Elektron In-Lens
Resolusi gambar	≤1nm@15kV;≤1.5nm@1kV
Densitas arus balok	> 5300 A/cm2
Ukuran Titik Sinar Minimal	≤2 nm
Litografi Spesifikasi
Penutup sinar elektron	Waktu Bangkit < 100 ns
Bidang Penulisan	≤500x500 um
Lebar Jalur Eksposur Tunggal Minimal	10±2nm
Kecepatan pemindaian	25 MHz/ 50 MHz
Parameter Generator Grafis
Inti Kontrol	FPGA berkinerja tinggi
Kecepatan maksimal pemindaian	50 MHz
Resolusi D/A	20 bit
Ukuran Lapangan Menulis yang Didukung	10 um ~ 500 um
Pendukung Penutup Sinar	5VTTL
Penambahan Waktu Tinggal Minimal	10ns
Format File yang Didukung	GDSIl, DXF, BMP, dll.
Pengukuran arus sinar cangkir Faraday	Termasuk
Koreksi Efek Kedekatan	Opsional
Tahap Laser Interferometer	Opsional
Mode Penjelasan	Sequential (Z-type), Serpentine (S-type), Spiral, dan mode pemindaian vektor lainnya
Mode Eksposur	Mendukung kalibrasi lapangan, jahitan lapangan, overlay, dan paparan otomatis multi-lapisan
Dukungan Saluran Eksternal	mendukung pemindaian sinar elektron, gerakan panggung, kontrol shutter sinar, dan deteksi elektron sekunder

Tahap Laser Interferometer

Tahap Laser Interferometer: Tahap interferometer laser canggih yang memenuhi persyaratan untuk jahitan dan overlay stroke besar dan presisi tinggi

Senapan Emisi Lapangan

Sebuah senjata emisi medan resolusi tinggi adalah jaminan penting untuk kualitas litografi

Generator Grafis

Mencapai ultra-resolusi tinggimenggambar pola sambil memastikan pemindaian ultra-cepat

A63.7010 VS Raith 150 Dua
Model Perangkat	OPTO-EDU A63.7010 (Cina)	Raith 150 Dua (Jerman)
Tegangan akselerasi (kV)	30	30
Min. Beam SpotDiameter (nm)	2	1.6
Ukuran panggung (inci)	4	4
Lebar garis minimum (nm)	10	8
Keakuratan jahitan (nm)	50 ((35nm)	35
Keakuratan penyambungan (nm)	50 ((35nm)	35